Esempi di lavorazione

Vassoio SiC di elevata purezza al 99,9%

Product Vassoio SiC
Material SiC 99.9%
Processing Method Lavorato tramite macchinario CNC
Size

Diametro φ200 x Spessore 0,5mm

Application

Vassoio per wafer per l'incisione CVD di semiconduttori.

Description

Carburo di silicioMachining Examples