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Substrato calefactor de AlN
| Producto | Substrato calefactor |
|---|---|
| Material | Nitruro de Aluminio (AlN) |
| Método de tratamiento | Ranurado (Ancho de la ranura: 0.3 mm) |
| Talla | Φ200 x 5 mm(T) |
| Aplicación | Componentes de dispositivos de vacío para equipos de fabricación de semiconductores. |
| Descrizione | El nitruro de aluminio posee propiedades de alta resistencia al calor, elevada conductividad térmica, excelente equilibrio térmico y aislamiento eléctrico. El sustrato calefactor de AlN se utiliza principalmente en dispositivos de fabricación de semiconductores, y también puede ser empleado en sistemas de evaporación al vacío, máquinas de pulverización catódica y dispositivos de depósito químico de vapor (CVD). |
