Substrato de AlN

Product	Substrato de AlN
Material	Nitruro de Aluminio (AlN)
Processing Method	Mecanizado por máquina CNC
Size	350 x 5 mm (T), Tolerancia de planitud: 0.01 mm
Application	Dispositivos para equipos de fabricación de semiconductores, por ejemplo, la oblea ficticia o las mordazas electrostáticas.
Description	El nitruro de aluminio posee propiedades de alta resistencia al calor, elevada conductividad térmica, excelente igualación térmica y aislamiento eléctrico. La película de sustrato de AlN se utiliza principalmente para dispositivos de fabricación de semiconductores, y también puede emplearse en sistemas de evaporación al vacío, máquinas de pulverización catódica y dispositivos de depósito químico de vapor (CVD).

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