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Substrato de AlN
| Producto | Substrato de AlN |
|---|---|
| Material | Nitruro de Aluminio (AlN) |
| Método de tratamiento | Mecanizado por máquina CNC |
| Talla | 350 x 5 mm (T), Tolerancia de planitud: 0.01 mm |
| Aplicación | Dispositivos para equipos de fabricación de semiconductores, por ejemplo, la oblea ficticia o las mordazas electrostáticas. |
| Descrizione | El nitruro de aluminio posee propiedades de alta resistencia al calor, elevada conductividad térmica, excelente igualación térmica y aislamiento eléctrico. La película de sustrato de AlN se utiliza principalmente para dispositivos de fabricación de semiconductores, y también puede emplearse en sistemas de evaporación al vacío, máquinas de pulverización catódica y dispositivos de depósito químico de vapor (CVD). |
