Piatto doccia in Carburo di Silico

Product	Piatto doccia in Silicio di Carbonio
Material	Carburo di Silicio (SiC)
Processing Method	Lavorato tramite macchinario CNC (Micro-hole Drilling)
Size	Φ300 x 8 mm(T)
Application	Utilizzato in dispositivi di produzione di semiconduttori.
Description	Una piastra per doccia realizzata in carburo di silicio viene utilizzata in attrezzature di trattamento superficiale al plasma. Presenta 800 microfori di Φ1.0 mm perforati sulla piastra per doccia in SiC. Il carburo di silicio ha un'elevata resistenza chimica e alla corrosione ed è un materiale diffuso per le parti utilizzate nelle attrezzature di processo dei semiconduttori.

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