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Substrato in Nitruro di Alluminio (AlN) φ200
| Prodotto | Substrato in Nitruro di Alluminio (AlN) |
|---|---|
| Materiale | Nitruro di Alluminio (AlN) |
| Metodo di elaborazione | Lavorato tramite macchinario CNC |
| Dimensione | Φ200 x 5 mm(T) Groove width: 0.3mm |
| Applicazione | Esempio di componente per i dispositivi a vuoto per attrezzature di produzione di semiconduttori. |
| Descrizione | Il Nitruro di Alluminio possiede proprietà di elevata resistenza al calore, elevata conducibilità termica, eccellente equalizzazione del calore e isolamento elettrico. Il substrato riscaldante in AlN viene utilizzato principalmente per dispositivi di produzione di semiconduttori, ma può essere impiegato anche nei sistemi di evaporazione sottovuoto, macchine di sputtering e dispositivi CVD. |
