Substrato in Nitruro di Alluminio (AlN) φ200

Product	Substrato in Nitruro di Alluminio (AlN)
Material	Nitruro di Alluminio (AlN)
Processing Method	Lavorato tramite macchinario CNC
Size	Φ200 x 5 mm(T) Groove width: 0.3mm
Application	Esempio di componente per i dispositivi a vuoto per attrezzature di produzione di semiconduttori.
Description	Il Nitruro di Alluminio possiede proprietà di elevata resistenza al calore, elevata conducibilità termica, eccellente equalizzazione del calore e isolamento elettrico. Il substrato riscaldante in AlN viene utilizzato principalmente per dispositivi di produzione di semiconduttori, ma può essere impiegato anche nei sistemi di evaporazione sottovuoto, macchine di sputtering e dispositivi CVD.

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