Substrato in Nitruro di Alluminio (AlN)

Product	Substrato in Nitruro di Alluminio (AlN)
Material	Nitruro di Alluminio (AlN)
Processing Method	Lucidato tramite macchina rettificatrice rotativa.
Size	Dimensioni: 350 x 5 mm (spessore) Tolleranza di planarità: 0,01 mm
Application	Dispositivi per attrezzature di produzione di semiconduttori, ad esempio, wafer di prova o morsetti elettrostatici.
Description	Il nitruro di alluminio ha proprietà di elevata resistenza al calore, elevata conducibilità termica, eccellente equalizzazione del calore e isolamento elettrico. La pellicola di substrato in AlN è utilizzata principalmente per dispositivi di produzione di semiconduttori, ma può anche essere impiegata in sistemi di evaporazione sotto vuoto, macchine di sputtering e dispositivi di deposizione chimica da vapore (CVD).

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