Bearbeitungsbeispiele

Hochreine 99,9 % SiC-Schale

Produkt Hochreine 99,9 % SiC-Schale
Material 99.9% SiC
Verfahren Schleifen und CNC-Bearbeitung
Größe

Durchmesser φ200 x Dicke 0,5 mm

Anmeldung

Wafer-Schale für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) von Halbleitern.

Beschreibung

SiliciumcarbidMachining Examples