Japanese
English
Français
Español
Italiano
Polish
Silicium (Si) - Kundenspezifisch bearbeitete Teile
Silicium ist das am häufigsten verwendete Halbleitermaterial. Hochreines Silicium ist das Material sowohl für Silicium-Wafer als auch für Komponenten der Halbleiterverarbeitung, um Partikel und Verunreinigungen zu vermeiden.
Säulenförmiges kristallines Silicium ist in großen Größen erhältlich. Außerdem verfügt es über eine hervorragende mechanische Festigkeit über einen weiten Temperaturbereich. Darüber hinaus ist die Bearbeitbarkeit von säulenförmigem kristallinen Silicium besser als die von einkristallinem Silicium und es kann mit weniger Absplitterungen und Rissen bearbeitet werden.
Silizium Eigenschaften
| Eigenschaft (Unit) |
Vickers-Härte HV(GPa) |
Biegefestigkeit (MPa) |
Schmelz punkt (℃) |
Wärmeausdehnungskoeffizient(×10-⁶/℃) | Wärmele itfähigkeit (W/(m・K)) |
Volumen widerstand (μΩ･㎝) |
Reinheit (％) |
Dotierung |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Struktur & Chemische Formel | ||||||||
| Einkristall (Si) |
7 | 78 | 1,414 | 3.4 | 160 | 0.1～100 | 11N | N P |
| Säulenförmiges Kristall (Si) |
7 | 85 | 1,414 | 3.3 | 163 | 0.001～10 | 6N | P |
Verfügbare Größen und Bearbeitungskapazität
| Verfügbarkeit | Größen (mm) | Bearbeitungskapazität | Größen (mm) |
|---|---|---|---|
| Platte | 500×800×50(columnar crystal Si only) | Loch-Durchmesser | Φ0.03 oder mehr |
| Stab | Φ100×400(columnar crystal Si only) | Tiefe der Bohrung | 20D（wenn weniger alsΦ1.5）、400（wenn weniger alsΦ1.5） |
| Breite der Kerbe | Kerbe ~0.05 | Max. Anzahl Bohrungen | 5,000 |
| Max. Stufenhöhe | 100 | Gewindegröße | M3 oder mehr (Einbau von Einsätze für spiralförmige Spulen erforderlich) |
Silicium (Si) - Kundenspezifisch bearbeitete Teile
Top Seiko Co., Ltd.
〒526-0105
1197-4, Hosoe-cho, Nagahama City,
Shiga Pref.,526-0105 Japan
[ Access Map ]
