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AlN-Heizelement-Substrat
| Product | AlN-Heizelement-Substrat |
|---|---|
| Material | Aluminiumnitrid |
| Processing Method | Kerben (Kerbenbreite: 0,3 mm) |
| Size | Φ200 x 5 mm(T) |
| Application | Komponenten von Vakuumgeräten für Halbleiterfertigungsanlagen. |
| Description | Aluminiumnitrid hat Eigenschaften wie hohe Hitzebeständigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichneter Wärmeausgleich und elektrische Isolierung. AlN Heizelement-Substrat kommt hauptsächlich für die Herstellung von Halbleitergeräten zum Einsatz und kann auch für Vakuumverdampfungsanlagen, Sputteranlagen und CVD-Geräte verwendet werden. |
