AlN-Heizelement-Substrat

Product	AlN-Heizelement-Substrat
Material	Aluminiumnitrid
Processing Method	Kerben (Kerbenbreite: 0,3 mm)
Size	Φ200 x 5 mm(T)
Application	Komponenten von Vakuumgeräten für Halbleiterfertigungsanlagen.
Description	Aluminiumnitrid hat Eigenschaften wie hohe Hitzebeständigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit, ausgezeichneter Wärmeausgleich und elektrische Isolierung. AlN Heizelement-Substrat kommt hauptsächlich für die Herstellung von Halbleitergeräten zum Einsatz und kann auch für Vakuumverdampfungsanlagen, Sputteranlagen und CVD-Geräte verwendet werden.

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