Bearbeitungsbeispiele

Duschkopfplatte

Produkt Duschkopfplatte
Material Siliciumcarbid
Verfahren Bohren von Mikro-Löchern
Größe

Φ300 x 8 mm(T)

Anmeldung

Wird in Geräten zur Halbleiterherstellung verwendet.

Beschreibung

Eine Duschplatte aus Siliziumkarbid wird in Plasmabehandlungsanlagen verwendet. Sie hat 800 Mikrolöcher von Φ1,0 mm, die in die SiC-Duschplatte gebohrt sind. Siliziumkarbid hat eine hohe chemische Beständigkeit und Korrosionsbeständigkeit und ist ein beliebtes Material für Teile, die in Halbleiterverarbeitungsanlagen verwendet werden.

SiliciumcarbidMachining Examples