Bearbeitungsbeispiele

Hochreine 99,9 % SiC-Schale

Product Hochreine 99,9 % SiC-Schale
Material 99.9% SiC
Processing Method Schleifen und CNC-Bearbeitung
Size

Durchmesser φ200 x Dicke 0,5 mm

Application

Wafer-Schale für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) von Halbleitern.

Description

SiliciumcarbidMachining Examples